纯净水设备是集成电路制造过程中不可或缺的基础设施，其应用贯穿于整个生产环节。在集成电路行业，对水质的要求极为苛刻，因为任何微小的杂质都可能影响芯片的性能和良率。
在晶圆清洗阶段，纯净水用于去除硅片表面的颗粒、金属离子和有机物。这一过程需要超纯水（电阻率≥18 MΩ·cm），以确保不会引入污染物。在光刻工艺中，纯净水用于稀释光刻胶和冲洗显影后的晶圆，避免残留物导致电路图形缺陷。在蚀刻和化学机械抛光（CMP）过程中，纯净水作为溶剂或冲洗剂，帮助维持工艺的稳定性和一致性。
除了直接生产应用，纯净水设备还用于支持厂务系统，如冷却塔补水和蒸汽发生，防止设备结垢和腐蚀。随着集成电路技术向更小制程（如5纳米以下）发展，对纯净水水质的要求日益提高，推动了高效反渗透（RO）、电去离子（EDI）和超滤等技术的创新。
纯净水设备在集成电路行业扮演着关键角色，不仅保障了产品的高质量，还促进了技术进步和产业升级。
